1) S. M. Gates, B. A. Scott, and R. D. Estes, Fundamnetal chemistry of silicon CVD
AIP Conf. Proc. 167, pp. 43-49;
- DOI:
http://dx.doi.org/10.1063/1.37142
+++AIP Conf. Proc. - 1 ст.
+++AIP Conf. Proc. - 1 ст.
Здравствуйте! Прошу скачать статью
1) S. M. Gates, B. A. Scott, and R. D. Estes, Fundamnetal chemistry of silicon CVD
AIP Conf. Proc. 167, pp. 43-49;
1) S. M. Gates, B. A. Scott, and R. D. Estes, Fundamnetal chemistry of silicon CVD
AIP Conf. Proc. 167, pp. 43-49;
Последний раз редактировалось o-oxhem Сб апр 07, 2012 1:51 pm, всего редактировалось 1 раз.
Re: AIP Conf. Proc. - 1 ст.
Спасибо.
Кто сейчас на конференции
Сейчас этот форум просматривают: нет зарегистрированных пользователей и 28 гостей