+++статья из Chemical Vapor Deposition

[verun4ik-style]

Доброе утро, прошу помочь с поиском статьи.

название: Highly Volatile, Low Melting, Fluorine-Free Precursors for Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of Lanthanide Oxide-Containing Thin Films
авторы: John A. Belot, Anchuan Wang , Richard J. McNeely , Louise Liable-Sands , Arnold L. Rheingold , Tobin J. Marks
том: Volume 5 Issue 2, Pages 65 - 69, 1999

Код: Выделить всё

http://dx.doi.org/10.1002/(SICI)1521-3862(199903)5:2<65::AID-CVDE65>3.0.CO;2-B

Заранее спасибо большое.

[FIN1]

[verun4ik-style]

Спасибо огромное.