+++Journal of Vacuum Science & Technology B

[Levitan]

Уважаемые коллеги, пожалуйста, помогите со статьями:

J. Vac. Sci. Technol. B 28, 940 (2010);

Код: Выделить всё

http://dx.doi.org/10.1116/1.3478304

(6 pages)
Direct-write electron beam lithography in silicon dioxide at low energy
Arnaud Beaumont, Christian Dubuc, Jacques Beauvais, and Dominique Drouin

J. Vac. Sci. Technol. B 30, 041601 (2012);

Код: Выделить всё

http://dx.doi.org/10.1116/1.4719561

(6 pages)
Electron beam lithography on vertical side faces of micrometer-order Si block
Kenji Yamazaki and Hiroshi Yamaguchi

J. Vac. Sci. Technol. B 24, 1202 (2006);

Код: Выделить всё

http://dx.doi.org/10.1116/1.2192543

(8 pages)
Monte Carlo simulation of process parameters in electron beam lithography for thick resist patterning
Jianyun Zhou and XiaoMin Yang

Заранее большое спасибо!

[ddtadd]

[Levitan]

Спасибо ddtadd!