+++J. Vac. Sci. Technol. - 1ст.

[o-oxhem]

Здравствуйте, прошу скачать статью:

1) A. C. W. Biebericher1, W. F. van der Weg1, J. K. Rath1, M. R. Akdim2, and W. J. Goedheer2, Gas-efficient deposition of device-quality hydrogenated amorphous silicon using low gas flows and power modulated radio-frequency discharges
J. Vac. Sci. Technol. A 21, 156 (2003);

DOI:

http://dx.doi.org/10.1116/1.1527899

Спасибо.

[SkydiVAR]

[o-oxhem]

Спасибо.