Journal of the Electrochemical Society
Kinetic Model for Oxide Film Passivation in Aluminum Etch Tunnels
Nishant Sinha and Kurt R. Hebert
2000 volume 147, issue 11, 4111-4119
Код: Выделить всё
http://dx.doi.org/10.1149/1.1394027Код: Выделить всё
http://dx.doi.org/10.1149/1.1394027Сейчас этот форум просматривают: нет зарегистрированных пользователей и 32 гостя